氮化硅TEM支持膜

Silicon nitride support films and membranes for EM

氮化硅薄膜是超平坦、應(yīng)力優(yōu)化且潔凈的載樣平臺(tái)，適用于TEM應(yīng)用。氮化硅的特性使其能夠成為堅(jiān)固、耐化學(xué)腐蝕、無(wú)碳、低背景信號(hào)的TEM支持膜。它們是納米顆粒成像、定量碳分析、支撐膜上化學(xué)實(shí)驗(yàn)、實(shí)時(shí)化學(xué)反應(yīng)和晶體生長(zhǎng)研究、薄膜研究、膜上細(xì)胞生長(zhǎng)和多種顯微鏡研究技術(shù)等應(yīng)用的理想選擇。氮化硅膜采取特別的計(jì)算方法和化學(xué)配方，針對(duì)每個(gè)窗口尺寸和膜厚度進(jìn)行了應(yīng)力優(yōu)化。這些支持膜采用先進(jìn)的MEMS技術(shù)制造，生產(chǎn)出無(wú)碎屑、清潔且高度平整的膜。

硅框架與標(biāo)準(zhǔn)3mm TEM載網(wǎng)樣品座完全兼容。SiN膜在一個(gè)2.65 x 2.65mm的模具上生產(chǎn)，帶有背面蝕刻的拐角，以適應(yīng)TEM載網(wǎng)樣品座中的?3mm開(kāi)口。標(biāo)準(zhǔn)硅框架厚度為200μm，提供了一個(gè)易于操作且堅(jiān)固的支撐框架。200μm厚度與幾乎所有的標(biāo)準(zhǔn)TEM載網(wǎng)樣品座兼容。對(duì)于特殊的TEM載網(wǎng)樣品座，可以選用100μm厚度較薄的硅支撐框架。

氮化硅支撐膜的優(yōu)點(diǎn)：

1）無(wú)定形、低背景、低散射

2）高耐酸、堿和溶劑

3）耐高溫，高達(dá)1000°C

4）無(wú)碳，易清潔

5）無(wú)支撐遮擋，可視區(qū)域大

6）支持多種顯微鏡技術(shù)，如TEM、SEM、FIB、EDX、Auger、XPS和AFM/SPM

氮化硅支撐膜的特點(diǎn)：

1）可選厚度為10、20、30、50、100和200nm堅(jiān)固氮化硅膜

2）與?3.05mm TEM載網(wǎng)樣品座完全兼容

3）清潔、超平坦的氮化硅膜

4）優(yōu)化膜應(yīng)力以實(shí)現(xiàn)高強(qiáng)度和高平面度

5）可選200μm和100μm兩種厚度的標(biāo)準(zhǔn)硅支撐框架

6）可選包裝：采用標(biāo)準(zhǔn)TEM載網(wǎng)盒，10片/盒和25片/盒兩種規(guī)格

氮化硅膜是通過(guò)在硅片上生長(zhǎng)具有所需厚度的氮化硅薄膜制成的。長(zhǎng)成之后，將窗口蝕刻到硅片背面，以完全去除硅直至SiN層。然后將硅片切割成2.65x2.65毫米的正方形，并對(duì)四個(gè)拐角進(jìn)行背面蝕刻，以使這些獨(dú)特的產(chǎn)品與標(biāo)準(zhǔn)的3.05毫米TEM載網(wǎng)尺寸兼容。

Specifications of the EM-Tec silicon nitride support films for EM

選用原則及注意事項(xiàng)：
1）對(duì)于高分辨率成像，應(yīng)該使用更薄的膜，比如10/20/30nm。

2）對(duì)于膜或膜上的多循環(huán)處理，應(yīng)使用更厚的膜：100或200nm，因?yàn)樗鼈兏鼒?jiān)固。

3）較小窗口比較大窗口提供更堅(jiān)固的窗口。

4）窗口越小，膜破損的幾率越低。

5）氮化硅膜不含任何碳；在使用前應(yīng)進(jìn)行清潔以去除表面吸附的碳?xì)浠衔铩＃ㄊ褂幂x光放電或溫和的等離子清洗）

6）不要用超聲波清潔，因?yàn)镾iN是脆弱的。

具有鋼結(jié)構(gòu)工程專(zhuān)業(yè)承包二級(jí)資質(zhì)、建筑工程施工總承包貳級(jí)資質(zhì)；公司主營(yíng)產(chǎn)品包括重鋼、輕鋼、網(wǎng)架及檁條、彩鋼板等鋼結(jié)構(gòu)產(chǎn)品；近年來(lái)，公司承接了國(guó)內(nèi)外大型結(jié)構(gòu)件、橋梁、車(chē)庫(kù)、標(biāo)準(zhǔn)化廠房等具有較大影響力的一系列項(xiàng)目；產(chǎn)品遠(yuǎn)銷(xiāo)白俄羅斯、贊比亞、印尼等國(guó)家，得到了一致好評(píng)。

關(guān)鍵詞：氮化硅TEM支持膜

相關(guān)產(chǎn)品

產(chǎn)品咨詢(xún)